機(jī)械測試儀

TriboLab CMP

提供廣泛的參數(shù)和工況模擬靈活性，用于精確和全面表征CMP過程及相關(guān)耗材

TriboLab CMP 利用其前身產(chǎn)品 （Bruker CP-4） 超過 20 年的 CMP 領(lǐng)域?qū)I(yè)知識，為業(yè)界領(lǐng)先的 TriboLab 平臺帶來了一套完整的功能?；诒咎自O(shè)備產(chǎn)生的高精度和高可重復(fù)性使得在整個 CMP 流程中能夠進(jìn)行高效的鑒別、檢查和連續(xù)功能測試。TriboLab CMP 能夠提供廣泛的拋光壓力 （0.05-50 psi）、速度（1 至 500 rpm）、摩擦、聲發(fā)射和表面溫度測量的工藝開發(fā)工具，可準(zhǔn)確、完整地描述 CMP 工藝和耗材

精確復(fù)制
小規(guī)模研發(fā)系統(tǒng)中的 ROI
此臺式工具可再現(xiàn)全尺寸晶圓拋光工藝條件，而無需在生產(chǎn)設(shè)備上停機(jī)。


靈活
參數(shù)控制
允許量身定制的測試，以加快材料開發(fā)，并精確優(yōu)化流程。


專家
應(yīng)用和支持
我們與大型安裝基地合作多年，為您的實驗室提供專業(yè)知識。


特征

用于 CMP 的小型研發(fā)規(guī)模專業(yè)系統(tǒng)

布魯克的TriboLab CMP工藝和材料表征系統(tǒng)是專為晶圓拋光工藝而設(shè)計，是具有可靠、靈活和高效的臺式設(shè)備。

  • 重現(xiàn)全尺寸晶圓拋光工藝條件，無需在生產(chǎn)設(shè)備上停機(jī)

  • 提供無與倫比的測量可重復(fù)性和細(xì)節(jié)檢測

  • 允許在小樣品上進(jìn)行測試，比全晶圓測試節(jié)省大量成本

板載診斷系統(tǒng)可以更好地了解拋光過程

TriboLab CMP 板載診斷

在 TriboLab CMP 測試儀上測試調(diào)節(jié)盤。測試標(biāo)識兩組拋光盤。摩擦系數(shù)測試與拋光盤磨損相關(guān)。

  • 提供更多的瞬態(tài)拋光過程的參數(shù)

  • 從接觸拋光盤開始直至整個測試過程都能收集數(shù)據(jù)

  • 通過更完整、更詳細(xì)的數(shù)據(jù)實現(xiàn)早期流程開發(fā)決策


具有靈活的樣品類型、尺寸和安裝配置

  • 拋光大多數(shù)平面材料，能使用各種修正盤，拋光液，和拋光墊

  • 輕松使用 100 mm 以下的小尺寸晶圓

  • 可同時安裝多個樣品，測試更靈活


特里博實驗室 CMP 墊示意圖

用于拋光盤測試的 CMP 測試儀的示意圖。